[发明专利]一种在玻璃衬底上制备碳纳米管的方法无效
申请号: | 200410000726.1 | 申请日: | 2004-01-16 |
公开(公告)号: | CN1558441A | 公开(公告)日: | 2004-12-29 |
发明(设计)人: | 李德杰;任延来;朱丹 | 申请(专利权)人: | 清华大学 |
主分类号: | H01J9/02 | 分类号: | H01J9/02;H01J1/304;C01B31/02 |
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地址: | 100084北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 一种在玻璃衬底上制备碳纳米管的方法,属于碳纳米管生长技术领域,特别涉及碳纳米管场发射阴极的制备。本发明以玻璃作衬底,先在玻璃衬底上沉积一层II主族金属或稀土金属的氟化物薄膜,再在其上沉积铁、钴、镍、钯或这些材料组成的合金薄膜作为催化剂,然后用常规生长技术在其上生长碳纳米管;或先在玻璃衬底上沉积一层铁、钴、镍、钯或这些材料的合金薄膜作为催化剂,再在其上沉积一层II主族金属或稀土金属的氟化物薄膜,然后在其上生长碳纳米管,所述生长碳纳米管时的衬底温度为400~650℃。本方法成功地解决了在低温条件下碳纳米管生长问题,可以实现在大面积衬底上且大批量生产,由于以玻璃为衬底,可明显降低生产成本。 | ||
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【主权项】:
1.一种在玻璃衬底上制备碳纳米管方法,其特征在于该方法按如下步骤进行:先在玻璃衬底上沉积一层II主族金属钙、镁、锶、钡的氟化物或稀土金属的氟化物薄膜,再在其上沉积铁、钴、镍、钯或这些材料组成的合金薄膜作为催化剂,然后用常规生长技术在其上生长碳纳米管;或先在玻璃衬底上沉积一层铁、钴、镍、钯或这些材料的合金薄膜作为催化剂,再在其上沉积一层II主族金属钙、镁、锶、钡或稀土金属的氟化物薄膜,然后在其上生长碳纳米管,所述生长碳纳米管时的衬底温度为400~650℃。
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