[发明专利]电容器阴极用箔及其制造方法有效
| 申请号： | 200380110215.9 | 申请日： | 2003-11-27 |
| 公开（公告）号： | CN1777965A | 公开（公告）日： | 2006-05-24 |
| 发明（设计）人： | 吕明哲;足高善也 | 申请（专利权）人： | 东洋铝株式会社 |
| 主分类号： | H01G9/04 | 分类号： | H01G9/04;H01G9/045;H01G9/055 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 樊卫民;杨青 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供可同时确保高电容量和高强度的电容器阴极用箔以及其制造方法。电容器阴极用箔包括铝箔和在该铝箔的表面上形成的含碳层。在铝箔和含碳层之间形成有含有铝和碳的介入层。电容器阴极用箔的制造方法包括在含有含烃物质的空间配置铝箔的工序，和对该铝箔进行加热的工序。 | ||
| 搜索关键词： | 电容器 阴极 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.电容器阴极用箔，其包括：铝箔；含碳层，其形成于所述铝箔的表面上；介入层，其形成于所述铝箔和所述含碳层之间，含有铝和碳。
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