[发明专利]利用密相气体和声波处理基片的基片处理设备无效
| 申请号： | 200380108216.X | 申请日： | 2003-11-18 |
| 公开（公告）号： | CN1735467A | 公开（公告）日： | 2006-02-15 |
| 发明（设计）人： | 吉尔·辛吉;凡瑟特·帕鲁特;凡瑟特·鲁斯;吉勒斯·佛瑞斯库特 | 申请（专利权）人： | 雷瑟夫公司;科技音速公司 |
| 主分类号： | B08B3/12 | 分类号： | B08B3/12 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 顾峻峰 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 法国;FR |
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| 摘要： | 本发明实施例涉及处理基片的基片处理设备和方法。在一个实施例中，基片处理设备包括处理室，在处理室内用于夹持基片的基片夹持器，和在处理室内供应基本上垂直于基片的声波的声盒。声盒可包括薄膜和连接于薄膜的换能器。 | ||
| 搜索关键词： | 利用 气体 声波 处理 设备 | ||
【主权项】：
1.一种基片处理设备，包括：(a)处理室；(b)在处理室内的基片夹持器，用于夹持基片；(c)在处理室内的声盒，用于供应基本上垂直于基片的声波，该声盒包括(i)薄膜，和(ii)连接于薄膜的换能器。
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