[发明专利]用于纳米压印的组合物和方法有效
| 申请号： | 200380106100.2 | 申请日： | 2003-11-12 |
| 公开（公告）号： | CN1726433A | 公开（公告）日： | 2006-01-25 |
| 发明（设计）人： | S·周;陈雷 | 申请（专利权）人： | 普林斯顿大学 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;B29C33/38 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 陈季壮 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及一种新的纳米压印抗蚀剂和在纳米压印平版印刷术中使用的薄膜组合物。采用纳米压印法，本发明的组合物允许经济高产量地生产出小于200纳米、甚至小于50nm特征的图案。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 纳米 压印 组合 方法 | ||
【主权项】：
1.一种在承载于基底上的膜内形成图案的方法，所述方法包括：获得一种材料的模具，所述模具相对于膜较硬，所述膜包括能在小于200℃的温度下通过所述模具变形的聚合物组合物；该模具具有彼此隔开的第一和第二凸出特征和由此形成的凹陷，其中第一和第二凸出特征与凹陷具有形成模具图案的形状并提供小于200nm的至少一个模具图案侧面尺寸；在模塑压力下促使模具形成膜；在模具的凸出特征下方的膜厚下降，从而在膜内形成模具图案；从该膜中除去模具；和从膜中除去降低厚度的区域，从而暴露薄区域下方的部分基底表面，以便基底表面的暴露部分基本上复制模具图案且具有小于200nm的至少一个侧面尺寸。
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