[发明专利]具电荷捕捉存储器单元的半导体存储器及制造方法无效
| 申请号: | 200380105648.5 | 申请日: | 2003-12-12 |
| 公开(公告)号: | CN1723555A | 公开(公告)日: | 2006-01-18 |
| 发明(设计)人: | M·博鲁;A·科哈塞;C·鲁德维格;H·帕姆;J·维尔勒 | 申请(专利权)人: | 因芬尼昂技术股份公司;因芬尼昂技术弗拉斯有限责任两合公司 |
| 主分类号: | H01L21/8246 | 分类号: | H01L21/8246;H01L27/115;G11C16/00 |
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 程天正;张志醒 |
| 地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 在本发明具有NROM单元的半导体存储器中,该存储器晶体管(T)的沟道区域是以横切关于相关字线(2)的方向延伸,该位线是配置在该字线的顶端,而以电绝缘于该字线的方法配置,且形成电导交叉连接(21),并分段配置于该字线间的内隙,且以电绝缘该字线的方法配置,而皆以次二序列连接至该位线。 | ||
| 搜索关键词: | 电荷 捕捉 存储器 单元 半导体 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种存储器阵列结构,其包含:一基板,其具有一第一极性,其包含复数个浅沟槽绝缘区域,其实质上是沿着一第一方向(y)连续配置;复数个传导字线,其是沿着一第二方向(x)配置,该第二方向是横切该第一方向,该字线是借助一捕捉介电质而至少部分地与该基板绝缘,其中邻接字线间的该基板区域是以一具有一第二极性的杂质布植,藉此产生复数个源极/漏极区域,其是由在该第二方向(x)的该沟槽绝缘所束缚,该源极/漏极区域是交替以奇数和偶数编号的行配置,而沿着该第一方向(y),且交替以偶数和奇数编号的列配置,而沿着该第二方向(x);复数个传导跳线连接,其实质上是于该沟槽绝缘区域的上,该等区域电连接该源极/漏极区域对,在偶数编号列的每一对源极/漏极区域是连接在偶数编号行的源极/漏极区域,以及在接续奇数编号行的相邻源极/漏极区域,而在奇数编号列的每一队源极/漏极区域是连接在奇数编号行的源极/漏极区域,以及在接续偶数编号行的相邻源极/漏极区域;以及复数个传导位线,其是沿着该第一方向(y)在该跳线连接上配置,每一该位线是连接复数个跳线连接,而在该偶数编号列或是该奇数编号列。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于因芬尼昂技术股份公司;因芬尼昂技术弗拉斯有限责任两合公司,未经因芬尼昂技术股份公司;因芬尼昂技术弗拉斯有限责任两合公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200380105648.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





