[发明专利]发光装置及其制作方法有效
| 申请号： | 200380105306.3 | 申请日： | 2003-11-27 |
| 公开（公告）号： | CN1723482A | 公开（公告）日： | 2006-01-18 |
| 发明（设计）人： | 村上智史;宫城德子 | 申请（专利权）人： | 株式会社半导体能源研究所 |
| 主分类号： | G09F9/30 | 分类号： | G09F9/30 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 杨凯;叶恺东 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 在发光装置中，最好发光元件的下部的膜表面具有平坦性。因此，在成膜后对于膜实施使膜平坦化等的处理。在本发明中，提出一种能够容易地进行上述平坦化的发光装置的结构。在第1膜上以与布线相同的层，制作第2膜。由此，在布线形成时，对第1膜中位于发光元件下部的部分进行蚀刻，能够防止在第1膜表面上形成凹凸。通过设置第2膜，第3膜的表面高度升高，从而能够实现局部的平坦化。 | ||
| 搜索关键词： | 发光 装置 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
1.一种发光装置，其特征在于，设有：形成在第1膜上的布线；在所述第1膜上以与所述布线相同的层形成的第2膜；形成在所述第1膜的上方的第3膜；以及形成在所述第3膜上的发光元件的电极，其中，所述发光元件的电极形成为至少一部分与所述第2膜重叠，覆盖所述发光元件的电极的端部的第4膜的开口部，设置在所述发光元件的电极和第2膜的重叠部。
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