[发明专利]清洁反应室的方法

摘要

说明一种在清洁操作模式中，用以清洁反应室(10)的方法。含氟化合物(G1)与额外化合物(G2)用于该清洁工作。该方法允许对该反应室(10)进行经济且环境友善的清洁工作。

主权项

1.一种用以清洁反应室(10)的方法，其中，在该反应室(10)的正常操作模式中，于引入至该反应室(10)中的半成品上，形成一含硅层，其中，在该正常操作模式中，在该反应室(10)的腔室壁(16至18)上及/或该反应室(10)中的结构上形成含硅沉积物(40)，其中，在一清洁操作模式中，利用一种进入该反应室(10)，包含含氟化合物(G1)与额外化合物(G2)的清洁气体混合物(G1、G2)，移除该沉积物(40)，该含氟化合物(G1)的至少百分之五十，都是一种包含多于一个碳原子的化合物，且该额外化合物(G2)的至少百分之五十，是一种至少包含一个氧原子的化合物。