[发明专利]用于在洁净室内封闭容器的高压设备无效
| 申请号: | 200380104156.4 | 申请日: | 2003-11-13 |
| 公开(公告)号: | CN1717775A | 公开(公告)日: | 2006-01-04 |
| 发明(设计)人: | C·吕特格;汉斯-奥托马尔·库尔茨 | 申请(专利权)人: | 乌德高压技术有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/00 | 分类号: | H01L21/00;B01J3/00 |
| 代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 谢志刚 |
| 地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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| 摘要: | 本发明涉及一种非常紧凑的设备和一种借助于旋转对称的往复式活塞装置封闭容器的方法,该往复式活塞装置包括一个工作活塞和一个导向缸并且基本上通过在容器中作为过程介质使用的相同的流体运行。其中工作活塞的端面形成容器封闭件的至少一部分和与封闭件刚性连接。在此,一种超临界的流体作为工作介质用于驱动活塞并且作为过程介质理想地使用。 | ||
| 搜索关键词: | 用于 洁净 室内 封闭 容器 高压 设备 | ||
【主权项】:
1.一种用于在洁净室内封闭容器(8)的高压设备,该容器包括至少一个基础件和一个封闭件并且具有一个在这两个部件之间的密封面,为了通过至少一种过程流体借助一个旋转对称的往复式活塞装置实施一种工艺过程,该往复式活塞装置包括至少一个带有各一个导向缸(4)的移动的旋转对称的工作活塞(1),并且工作活塞(1)在位于导向缸(4)中的活塞端部上具有至少一个在外表面上径向环绕的增强部(3),使得在导向缸(4)和工作活塞(1)之间的内腔被分为至少一个下部的缸空腔(12)和一个上部的缸空腔(13),并且在导向缸(4)中至少一个孔(5)和(6)通向这些缸空腔(12和13)中的每一个缸空腔,并且这些孔(5)和(6)直接地或经由管道(24和25)与至少一个对导向缸(4)缸内腔(12和13)的输入和排出进行控制的调节和控制单元(20)连接,其特征在于:-用于驱动工作活塞(1)的流体与在压力容器(8)中使用的流体的主要成分是相同的,并且流体或者是超临界的气体或者是易挥发的介质;-其中,工作活塞的端面至少是封闭件的一部分或与容器的封闭件刚性地连接,并且这个封闭件相对于工作活塞同样基本上沿旋转轴线移动,并且容器设置在工作活塞端面的对面,并且工作活塞的底面大于容器基础件和封闭件之间的压紧面,以及-滑动面(14、15和16)中的至少一个滑动面具有一个高于60%的支承比,所述滑动面在缸内表面和活塞表面上定位在缸表面和活塞表面相互接触地对置且平行于旋转轴线相互移动所在的那些区域内,其中所述支承比为表面结构中凸出部分和凹下部分的比值。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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