[发明专利]背面入射型光电二极管阵列、其制造方法以及半导体装置无效

专利信息
申请号: 200380103582.6 申请日: 2003-11-18
公开(公告)号: CN1714454A 公开(公告)日: 2005-12-28
发明(设计)人: 柴山胜己;石田雅之;能野隆文 申请(专利权)人: 浜松光子学株式会社
主分类号: H01L27/14 分类号: H01L27/14;G01T1/20;H04N5/32
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人: 龙淳
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种背面入射型光电二极管阵列(1),具有由第一导电型半导体构成的半导体基板(3),在该半导体基板(3)的被检测光(L)的入射面的相反面侧上形成有多个光电二极管,其中,在半导体基板(3)的相反面侧上以阵列状排列形成有多个凹部(4),通过在凹部(4)的底部(4a)上形成由第二导电型半导体构成的第二导电型半导体区域(5)来以阵列状排列光电二极管。
搜索关键词: 背面 入射 光电二极管 阵列 制造 方法 以及 半导体 装置
【主权项】:
1.一种背面入射型光电二极管阵列,其特征在于,包括:具有光入射面、以及位于所述光入射面的相反侧且具有多个凹部的相反面的第一导电型半导体基板,以及在所述各凹部的底部隔离开空间的多个第二导电型半导体区域,所述各半导体区域与所述半导体基板一起构成pn接合。
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