[发明专利]高浓度硅石泥浆无效
| 申请号： | 200380103441.4 | 申请日： | 2003-11-21 |
| 公开（公告）号： | CN1711216A | 公开（公告）日： | 2005-12-21 |
| 发明（设计）人： | 森井俊夫;B·保罗 | 申请（专利权）人： | 日本艾罗西尔股份有限公司 |
| 主分类号： | C01B33/141 | 分类号： | C01B33/141;C09K3/14 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 庞立志 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种高浓度硅石泥浆，其特征在于：将硅石粉末分散于溶剂中形成的硅石浓度为50wt％以上，粘度为1000mPa·s以下，其中所述硅石粉末通过激光衍射粒度分布得到的平均粒径(DL)与通过TEM摄影得到的平均粒径(DT)之比(DL/DT)为1.3以下，平均初级粒径为0.08μm－0.8μm。优选硅石浓度为70wt％以上－80wt％以下且泥浆调制时的粘度为800mPa·s以下的高浓度硅石泥浆，该硅石泥浆使用了具有特定杂质含量的硅石粉末，该硅石粉末中钠和钾的杂质浓度均为1.0ppm以下，铝的含量为1.0ppm以下，硫、镍、铬和铁各自的含量均为0.5ppm以下。 | ||
| 搜索关键词： | 浓度 硅石 泥浆 | ||
【主权项】：
1.一种高浓度硅石泥浆，其特征在于：将硅石粉末分散于溶剂中形成的硅石浓度为50wt％以上，粘度为1000mPa·s以下，其中所述硅石粉末的通过激光衍射粒度分布得到的平均粒径(DL)与通过TEM摄影得到的平均粒径(DT)之比(DL/DT)为1.3以下，平均初级粒径为0.08μm-0.8μm。
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