[发明专利]对二维结构生成模拟衍射信号有效
| 申请号： | 200380101531.X | 申请日： | 2003-10-14 |
| 公开（公告）号： | CN1705888A | 公开（公告）日： | 2005-12-07 |
| 发明（设计）人： | 约尔格·比肖夫;牛新辉 | 申请（专利权）人： | 音质技术公司 |
| 主分类号： | G01R31/26 | 分类号： | G01R31/26 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 郭思宇 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 可生成用于确定半导体晶片上形成的结构的轮廓的一个或多个模拟衍射信号，其中该轮廓在一维以上变化。对该结构的假想轮廓在第一维和第二维上的变化生成各中间计算，其中每个中间计算对应该结构的假想轮廓的一个部分。然后存储生成的中间计算并在用来为该结构的一个或多个假想轮廓生成一个或多个模拟衍射信号中使用。 | ||
| 搜索关键词： | 二维 结构 生成 模拟 衍射 信号 | ||
【主权项】：
1.一种生成用于确定半导体晶片上形成的结构的轮廓的一个或多个模拟衍射信号的方法，其中该轮廓在一维以上变化，该方法包括：生成中间计算，其中每个中间计算对应于该结构的一假想轮廓的一部分，以及其中对该假想轮廓在第一维和第二维上的变化生成各个中间计算；存储生成的中间计算；以及根据存储的中间计算为该结构的一个或多个假想轮廓生成一个或多个模拟衍射信号。
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