[发明专利]在基材上构造UV吸收层的方法无效
| 申请号： | 200380101184.0 | 申请日： | 2003-10-08 |
| 公开（公告）号： | CN1703287A | 公开（公告）日： | 2005-11-30 |
| 发明（设计）人： | M·鲍尔;A·巴兰亚伊;M·昆茨 | 申请（专利权）人： | 西巴特殊化学品控股有限公司 |
| 主分类号： | B05D3/06 | 分类号： | B05D3/06;B05D3/14;C08J7/18 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 刘维升;李连涛 |
| 地址： | 瑞士*** | 国省代码： | 瑞士;CH |
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| 摘要： | 本发明记载了一种在无机或有机基材上构造UV吸收剂涂层的方法。该方法的特征在于，a)在无机或有机的基材上进行低温等离子体、电晕放电和/或能量辐射处理，b)将至少一种自由基引发剂和含有至少一种烯属不饱和基团的至少一种UV吸收剂，以及适当时以熔体、溶液、悬浮液或乳液形式存在的至少一种协同剂和/或至少一种烯属不饱和化合物涂覆在经处理后的无机或有机基材上，c)加热经涂层的基材和/或利用电磁波对其进行辐照。此外，本发明还设计一种如此方法制得的含UV吸收剂涂层的基材。该方法能最大限度地消除真空操作条件和过量的热伏在或能量负载以及UV吸收剂分解现象。该方法能构造得一种粘结性良好且澄清透明的UV吸收剂涂层，同时它们的性质也能得到很好的控制，例如光密度。 | ||
| 搜索关键词： | 基材 构造 uv 吸收 方法 | ||
【主权项】：
1.一种在有机或无机的基材上构造UV吸收层的方法，其特征在于，a)在无机或有机的基材上进行低温等离子体、电晕放电和/或能量辐射处理，b)将至少一种自由基引发剂和含有至少一种烯属不饱和基团的至少一种UV吸收剂，以及任选地以熔体、溶液、悬浮液或乳液形式存在的至少一种协同剂和/或至少一种烯属不饱和化合物涂覆在经处理后的无机或有机基材上，c)加热经涂层的基材和/或利用电磁波对其进行辐照。
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