[发明专利]制造生产光盘的母盘的方法和生产光盘的方法无效

专利信息
申请号: 200380100324.2 申请日: 2003-12-24
公开(公告)号: CN1692418A 公开(公告)日: 2005-11-02
发明(设计)人: 甲斐慎一;荒谷胜久;河内山彰;中川谦三;竹本祯广 申请(专利权)人: 索尼株式会社
主分类号: G11B7/26 分类号: G11B7/26
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 付建军
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 制造生产光盘的母盘的方法包括:曝光过程,其中以记录激光辐射形成在衬底100上的无机抗蚀剂层101,通过对应于光盘上信息凹形和凸形图形的信息信号的信息信号调制该记录激光;以及之后的显影过程,其中在无机抗蚀剂层上执行显影处理以形成对应于无机抗蚀剂层的信息凹形和凸形图形的凹形和凸形图形;在曝光过程中,在抗蚀剂层的非记录区上执行试验曝光后,使评估激光辐射曝光部分,从反射光中评估抗蚀剂层的记录信号特征以基于评估结果确定记录激光的最佳焦点位置;因此从在抗蚀剂上的曝光部分的记录特征中预测并评估光盘的记录信号的特征(跳动值)以基于评估结果调节曝光聚焦位置,由此可制造具有适当凹形和凸形图形的母盘以及具有良好特征的光盘。
搜索关键词: 制造 生产 光盘 母盘 方法
【主权项】:
1.一种制造生产光盘的母盘的方法,包括:曝光步骤,其中以记录激光辐射形成在衬底上的无机抗蚀剂层,该记录激光由对应于形成在所述光盘上的信息凹形和凸形图形的信息信号的信息信号调制,以形成对应于所述光盘的所述信息凹形和凸形图形的曝光图形,以及在前述步骤之后的显影步骤,其中在所述无机抗蚀剂层上执行显影处理以形成对应于所述无机抗蚀剂层的所述信息凹形和凸形图形的凹形和凸形图形;其中在所述曝光过程中,在所述抗蚀剂层的非记录区上执行试验曝光之后,将评估激光辐射在曝光部分上以从反射光中评估所述抗蚀剂层的记录信号特征,以及基于评估结果执行曝光聚焦位置的调节以确定后来执行的记录激光的最佳焦点位置。
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