[实用新型]数字全息两次曝光位相差放大装置无效
申请号: | 200320107829.9 | 申请日: | 2003-11-07 |
公开(公告)号: | CN2655294Y | 公开(公告)日: | 2004-11-10 |
发明(设计)人: | 高鸿奕;陈建文;何红;李儒新;徐至展 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
主分类号: | G03F1/04 | 分类号: | G03F1/04;G01M11/02 |
代理公司: | 上海新天专利代理有限公司 | 代理人: | 张泽纯 |
地址: | 201800上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 一种数字全息两次曝光位相差放大装置,包括激光光源,其特征在于沿激光光源发出的激光束的前进方向依次有扩束望远镜、第一半透半反镜,该第一半透半反镜的透射光方向经第一全反凹面镜到第二半透半反镜,该第一半透半反镜的反射光方向经第二全反凹面镜到达第二半透半反镜,其后再依次是透镜、探测器和计算机,所述的探测器是一台电荷耦合器CCD,位于透镜的焦距上。将待测样品放在第一半透半反镜和第一全反凹面镜之间的透射光路中,经两次曝光并利用计算机的重构即可获得位相差放大。 | ||
搜索关键词: | 数字 全息 两次 曝光 相差 放大 装置 | ||
【主权项】:
1、一种数字全息两次曝光位相差放大装置,包括激光光源(1),其特征在于沿激光光源(1)发出的激光束的前进方向依次有扩束望远镜(2)、第一半透半反镜(3),该第一半透半反镜(3)的透射光方向经第一全反凹面镜(4)到第二半透半反镜(6),该第一半透半反镜(3)的反射光方向经第二全反凹面镜(5)到达第二半透半反镜(6),其后再依次是透镜(7)、探测器(8)和计算机(9),所述的探测器(8)是一台电荷耦合器CCD,位于透镜(7)的焦距上。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
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