[发明专利]多层光致抗蚀剂系统无效
| 申请号： | 200310124967.2 | 申请日： | 2003-11-20 |
| 公开（公告）号： | CN1542546A | 公开（公告）日： | 2004-11-03 |
| 发明（设计）人： | 乔治·G.·巴克利;詹姆斯·F.·卡梅伦 | 申请（专利权）人： | 希普雷公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;H01L21/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 任宗华 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供多层光致抗蚀剂系统。在特别的方面，本发明涉及其上涂有光致抗蚀剂的底层组合物，特别是其上涂有在短曝光波长下成像的含硅光致抗蚀剂的底层组合物。 | ||
| 搜索关键词： | 多层 光致抗蚀剂 系统 | ||
【主权项】：
1.一种涂布的基底，包括a)基底上的有机底层组合物涂层，该底层组合物包括含有芳香族和/或脂环族基团的组分和含有一种或多种生色基团的组分；b)位于底层组合物涂层之上的、在小于200nm成像的光致抗蚀剂组合物涂层，该光致抗蚀剂含有光活性组分和含硅的组分。
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