[发明专利]X－射线控制方法和X－射线成像设备无效
| 申请号： | 200310124086.0 | 申请日： | 2003-11-27 |
| 公开（公告）号： | CN1535100A | 公开（公告）日： | 2004-10-06 |
| 发明（设计）人： | 濑川晃司;关口淳子;藤谷京子 | 申请（专利权）人： | GE医疗系统环球技术有限公司 |
| 主分类号： | H05G1/34 | 分类号： | H05G1/34;A61B6/03 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 王岳;陈霁 |
| 地址： | 美国威*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 为了减小曝光剂量，在X－射线成像设备的X－射线控制方法中，该X－射线成像设备基于所检测的X－射线信号产生图像，设定给要成像的对象的X－射线曝光剂量的上限(603)，和调制X－射线管的管电流以使曝光剂量不超过该上限(606－610)。通过基于成像规程查找曝光剂量预测值实现管电流的调制，并在预测值超过该上限时修改在成像规程中的管电流设定值。 | ||
| 搜索关键词： | 射线 控制 方法 成像 设备 | ||
【主权项】：
1.一种X-射线成像设备的X-射线控制方法，该X-射线成像设备将X-射线从X-射线管投影到要成像的对象上并检测所透射的X-射线，并基于所检测的X-射线信号产生图像，包括如下的步骤：设定给要成像的对象的X-射线曝光剂量的上限；和调制X-射线管的管电流以使曝光剂量不超过该上限。
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