[发明专利]照相凹版制版方法

摘要

本发明涉及照相凹版制版方法，所述方法在涂膜形成后非加热下具有所需的足够的显影宽容度的利用正型热抗蚀剂可进行极优良的照相凹版制版。在被制版辊上涂布正型感光剂，形成感光膜，所述感光剂由在涂膜形成后不必加热下具有显影宽容度的对红外波长区域激光有感应性的碱可溶性的正型感光性组合物构成，然后，对该感光膜利用红外波长区域的激光将正图像曝光，切断该曝光部分的感光膜形成树脂的分子的主链和侧链的部分，形成碱可溶性进一步提高的低分子，同时，形成使适当产生感光层飞散的潜影，然后进行碱显影，冲洗掉曝光部分的感光膜形成树脂，只残留非划线部的抗蚀剂。

主权项

1、一种照相凹版制版方法，其特征在于，使作为纵管的涂布管的上端接近水平地两端被夹紧地旋转的被制版辊的一端的下面，将该涂布管移动到被制版辊的另一端，从该涂布管的上端使下述正型感光剂以稍稍隆起地溢出那样用螺旋涂布方式涂布到被制版辊上，所述正型感光剂由具有在一端形成涂膜后非加热地利用碱显影液将被曝光的划线部冲洗掉、并且未曝光的非划线部不被冲洗掉的显影宽容度、并对红外波长区域的激光有敏感性的碱可溶性的正型感光性组合物构成，涂布完毕后，继续旋转被制版辊，形成自然干燥的涂膜，接下来，将被制版辊以所需的高速旋转，将涂膜中的残留溶剂向空气中扩散，降低残留溶剂浓度，形成感光膜，接下来，对该感光膜利用红外波长区域的激光进行正型图像曝光，将该曝光部分的感光膜形成树脂的分子的主链或侧链的部分切断，形成进一步提高碱可溶性的低分子，同时，形成使感光层适当地产生飞散(烧蚀)的潜影，接下来，进行碱显影，将曝光部分的感光膜形成树脂冲洗掉，只残留非划线部的抗蚀剂。