[发明专利]垂直磁记录介质、其制造方法以及磁记录－再现装置无效
| 申请号： | 200310118358.6 | 申请日： | 2003-11-25 |
| 公开（公告）号： | CN1505006A | 公开（公告）日： | 2004-06-16 |
| 发明（设计）人： | 岩崎刚之;彥坂和志;及川壮一;中村太;酒井浩志;清水谦治;坂脇彰 | 申请（专利权）人： | 株式会社东芝;昭和电工株式会社 |
| 主分类号： | G11B5/66 | 分类号： | G11B5/66 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 李德山 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及垂直磁记录介质、其制造方法以及磁记录－再现装置，其中的垂直磁记录介质(10)包括在280－450℃下用磁层形成材料形成的垂直磁层(2)，所述磁层形成材料包含至少一种从包括钴、铂、铬、钼和钨的组中选择的添加成分，垂直磁层(2)构造为包括相互之间被晶粒边界分离开的多个磁晶粒，并且提供在晶粒边界中偏析所述添加成分的垂直磁层(2)。 | ||
| 搜索关键词： | 垂直 记录 介质 制造 方法 以及 再现 装置 | ||
【主权项】：
1.一种制造垂直磁记录介质(10)的方法，其特征在于包括：通过使用包含至少一种从包括钴、铂、钼和钨的组中选择的添加成分的磁层形成材料，在280-450℃下在非磁性基片(1)上形成磁层(2)，所述磁层构造为包括相互之间被晶粒边界分离开的多个磁晶粒，并提供在晶粒边界中偏析所述添加成分的垂直磁层。
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