[发明专利]发光二极管的制造方法及其结构无效

专利信息
申请号: 200310115623.5 申请日: 2003-11-10
公开(公告)号: CN1617360A 公开(公告)日: 2005-05-18
发明(设计)人: 张盼梓;宋盈彻 申请(专利权)人: 华上光电股份有限公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 代理人: 陈晨;郭凤麟
地址: 台湾省*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明提供一种发光二极管的制造方法及其结构,其中该制造方法的步骤包括提供一成长基板;在该成长基板上成长一半导体芯片;将一金属基板与该半导体芯片进行黏合;去除该成长基板;以及分别形成一第一电极及一第二电极在该半导体芯片之下及该金属基板之上。该发光二极管结构包括一用以发光的半导体芯片;一金属基板,其利用黏合技术形成在该半导体芯片上;以及一第一电极及一第二电极,其分别形成在该半导体芯片之下及该金属基板之上,以提供一电流至该半导体芯片。
搜索关键词: 发光二极管 制造 方法 及其 结构
【主权项】:
1.一种发光二极管的制造方法,其步骤包括:提供一成长基板;在该成长基板上成长一半导体芯片;将一金属基板与该半导体芯片进行黏合;去除该成长基板;以及分别形成一第一电极及一第二电极在该半导体芯片之下及该金属基板之上。
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