[发明专利]具有枢轴机构且垂直可调的化学机械抛光头及其使用方法有效
| 申请号： | 200310114866.7 | 申请日： | 2003-11-07 |
| 公开（公告）号： | CN1498725A | 公开（公告）日： | 2004-05-26 |
| 发明（设计）人： | 樱井邦彦;格瑞德·莫洛尼;王惠明;刘军;劳志刚 | 申请（专利权）人： | 埃巴拉技术公司 |
| 主分类号： | B24B41/047 | 分类号： | B24B41/047;B24B29/00;H01L21/302 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 王琼 |
| 地址： | 美国加*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种化学机械抛光头及其使用方法，该抛光头带有一枢轴机构，且在垂直方向上是可调的。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 枢轴 机构 垂直 可调 化学 机械抛光 及其 使用方法 | ||
【主权项】：
1、一种化学机械抛光头，其包括：下托架，其可相对于一抛光垫上的基片调整垂直位置，并能在执行CMP过程中将高度固定；以及插入件，其被联接到下托架上，从而形成一个可容纳空气的腔室，所容纳的空气在腔室内提供一个基片抛光的向下作用力。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于埃巴拉技术公司，未经埃巴拉技术公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200310114866.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：研磨机和研磨工件的方法
- 下一篇：研削材料、研削材料的制造方法及制造装置
