[发明专利]光刻装置和器件制造方法

摘要

投射光束PB通过掩模MA投射到基底W上。通过穿过在光瞳平面前面的一组光学元件120a－b传送的光束来控制与基底W处光束强度的方向相关性。光强分布作为光瞳平面14内位置的函数确定基底W处的角度相关性。光学元件120a－b，优选为微透镜阵列，或更具体为衍射光学元件，每个限定光束PB的光强的角度相关性。光学元件120a－b都设置为使光束PB的主要部分基本上无偏转地通过以及使一小部分以与偏转角相关的强度通过。光束的主要部分在光学元件120a－b组之后在光束中被阻挡。从而实现在光瞳平面14的光强上的附加效果。

主权项

1.一种光刻装置，包括：用于提供辐射投射光束的照明系统，该照明系统限定光瞳平面内辐射光束的光强分布，该照明系统包括用于将投射光束以与由该光学元件确定的与方向相关的光强分布在一定方向范围内偏转；用于支撑构图部件的支撑结构，所述构图部件用于根据所需的图案对投射光束进行构图；用于保持基底的基底台；用于将带图案的光束投射到基底的目标部分上的投射系统；其特征在于，该装置包括：在投射光束的光路中跟随所述光学元件设置的附加光学元件，所述光学元件和所述附加光学元件都设置为使投射光束的主要部分基本上无偏转地通过，所述附加光学元件以与方向相关的光强分布将通过所述光学元件的光束的主要部分在另一个方向范围偏转；用于阻挡无偏转地通过所述光学元件和所述附加光学元件的所述投影光束的光强部分传输到基底的阻挡元件。