[发明专利]一种无肼刻蚀液有效
| 申请号： | 200310111758.4 | 申请日： | 2003-10-09 |
| 公开（公告）号： | CN1605943A | 公开（公告）日： | 2005-04-13 |
| 发明（设计）人： | 刘萍 | 申请（专利权）人： | 刘萍 |
| 主分类号： | G03F7/32 | 分类号： | G03F7/32;C09K13/00 |
| 代理公司： | 深圳市顺天达专利商标代理有限公司 | 代理人： | 郭伟刚 |
| 地址： | 518057广东省深圳市南*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种无肼刻蚀液，为解决现有无肼刻蚀液的刻蚀速度较慢的问题，本发明无肼刻蚀液的其成分包括苛性碱、胺类和水，其中的苛性碱为氢氧化钾，胺类中包括一乙醇胺；另外，还可采用尿素作为其增速剂；所述胺类中还可加入己二胺，也就是说，所述胺类可以是一乙醇胺与己二胺的混合物。在本发明所述的无肼刻蚀液中，按重量计，氢氧化钾的含量为30－45份，水的含量为30－45份，一乙醇胺的含量为20－35份；在此基础上可再加入己二胺0－10份，尿素5－15份。本发明的无肼刻蚀液具有刻蚀速度快、刻蚀精度高等特点，可用于柔性线路制造工艺中对聚酰亚膜进行刻蚀。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 刻蚀 | ||
【主权项】：
1、一种无肼刻蚀液，其成份包括苛性碱、胺类和水，其特征在于，所述苛性碱为氢氧化钾，所述胺类中包括一乙醇胺。
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