[发明专利]一种检测氮化镓基材料局域光学厚度均匀性的方法无效
| 申请号： | 200310109268.0 | 申请日： | 2003-12-11 |
| 公开（公告）号： | CN1553169A | 公开（公告）日： | 2004-12-08 |
| 发明（设计）人： | 陆卫;陈贵宾;李宁;王少伟;陈效双;李志锋;周均铭;陈明法 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海技术物理研究所;上海蓝宝光电材料有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/64 | 分类号： | G01N21/64 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人： | 郭英 |
| 地址： | 20008*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种检测GaN基材料局域光学厚度均匀性的方法，该方法采用显微荧光光谱测量，将测得数据进行处理获得振荡干涉谱，再对干涉谱进行干涉峰位线性拟合，进而得到材料的光学厚度，然后用常规的统计方法就可直接得到厚度不均匀性的分布特征。该方法可为材料生长工艺优化研究提供丰富的信息，特别对严重损害器件质量的局域非均匀性检测方面具有明显的意义。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 检测 氮化 基材 局域 光学 厚度 均匀 方法 | ||
【主权项】：
1.一种检测GaN基材料局域光学厚度均匀性的方法，其步骤包括：a.首先采用显微荧光光谱仪对GaN基半导体薄膜材料进行荧光光谱测量；b.之后对荧光光谱进行处理，获得振荡干涉谱，再对干涉谱进行干涉峰位线拟合，进而得到材料的光学厚度，然后用常规的统计方法求得厚度不均匀性的分布特征。
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