[发明专利]非易失半导体存储装置无效

专利信息
申请号: 200310104489.9 申请日: 2003-10-30
公开(公告)号: CN1499637A 公开(公告)日: 2004-05-26
发明(设计)人: 高桥秀一;鹿仓文子;森真也;山田顺治;山田裕;谷口敏光 申请(专利权)人: 三洋电机株式会社
主分类号: H01L27/10 分类号: H01L27/10;H01L23/52
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 李贵亮;杨梧
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种非易失半导体存储装置,谋求缩短掩模ROM的TAT,同时谋求高速化和高集成化。在应用三层金属工艺的掩模ROM中,根据有无设在第三绝缘层(25)上的第三接触孔(TC)来切换是否将存储晶体管(MT1)连接在位线(BL)上,进行程序设计,特别是具有设在各绝缘层(18、22、25)的接触孔(FC2、SC、TC)及分别埋入这些接触孔的W塞(20、23、26)上下方向对准堆栈的结构,即具有栈式接触结构(StackedContact Structure)。
搜索关键词: 非易失 半导体 存储 装置
【主权项】:
1、一种非易失半导体存储装置,其特征在于,包括:存储晶体管;在该存储晶体管上交替层积的绝缘层及金属层;设在各所述绝缘层上的接触孔;埋入该接触孔、用于电连接上下方向邻接的金属层的金属塞;由最上层的金属层构成的位线,分别设于所述绝缘层上的接触孔上下方向对位形成,且根据设于所述各绝缘层中某一绝缘层的接触孔及金属塞的有无,切换所述存储晶体管是否连接在所述位线上。
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