[发明专利]气密容器的制造方法、图像显示装置的制造方法及粘接方法无效
| 申请号： | 200310102498.4 | 申请日： | 2003-10-21 |
| 公开（公告）号： | CN1497641A | 公开（公告）日： | 2004-05-19 |
| 发明（设计）人： | 长谷川光利;时冈正树;三浦德孝 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | H01J9/26 | 分类号： | H01J9/26;H01J9/40;G09F9/30 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 付建军 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种气密容器的制造方法、图像显示装置的制造方法及粘接方法。该使用粘接材料的粘接方法，具有在第一构件上形成基底的工序；在该基底上形成粘接材料的工序；在第二构件上形成与粘接材料不同的接触构件的工序；以及使上述粘接材料和上述接触构件接触，进行上述第一构件和上述第二构件的粘接的工序，上述基底是上述粘接材料对该基底的湿润性比对上述第一构件的形成上述基底之前的面的湿润性好的基底，上述粘接材料对上述接触构件的粘接性比上述粘接材料对上述第二构件的形成上述接触构件之前的面的粘接性好。 | ||
| 搜索关键词： | 气密 容器 制造 方法 图像 显示装置 | ||
【主权项】：
1.一种气密容器的制造方法，其特征在于：具有粘接第一构件和第二构件的工序，该粘接的工序具有：在上述第一构件上形成基底的工序；在该基底上形成粘接材料的工序；在上述第二构件上形成与上述粘接材料不同的接触构件的工序；以及使上述粘接材料和上述接触构件接触的工序；上述基底是上述粘接材料对该基底的湿润性比上述粘接材料对上述第一构件的形成上述基底之前的面的湿润性好的基底，上述接触构件是该接触构件和上述粘接材料的粘接性比形成上述接触构件之前的面和上述粘接材料的粘接性好的接触构件，对上述第二构件进行了规定的处理工序后，进行形成上述接触构件的工序。
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