[发明专利]电光装置及其制造方法和电子设备无效
申请号: | 200310100256.1 | 申请日: | 2003-10-13 |
公开(公告)号: | CN1499270A | 公开(公告)日: | 2004-05-26 |
发明(设计)人: | 坂井一喜 | 申请(专利权)人: | 精工爱普生株式会社 |
主分类号: | G02F1/1341 | 分类号: | G02F1/1341;G02F1/133;H01L21/00 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 | 代理人: | 陈海红;段承恩 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明的课题在于针对具有由银单质,或银合金构成的反射层的电光装置,提供一种能够减小反射层的小凸部等的形状异常的发生的结构。在液晶显示装置(200)的背面侧基体(210)上,在基板(211)上,形成有反射电极(212),在该反射电极(212)中,依次形成有由ITO等的导电性金属氧化物构成的基底导电层(212A);由银单质,或银合金构成的反射性导电层(212B);由ITO等的透明导电体构成的透明导电层(212C)。上述透明导电层(212C)的厚度小于基底导电层(212A)。最好,该透明导电层(212C)的厚度在5~30nm的范围内。 | ||
搜索关键词: | 电光 装置 及其 制造 方法 电子设备 | ||
【主权项】:
1.一种电光装置,在包括设置于一对基板之间的电光物质,与对该电光物质施加电场的机构的电光装置中,其特征在于:在一块上述基板上,叠置有由导电性金属氧化物构成的基底导电层,由银单质或银合金构成的反射性导电层和由透明导电体构成的透明导电层;上述透明导电层的厚度比上述基底导电层薄。
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