[发明专利]声光调频一次曝光成像干涉光刻方法及其系统无效
| 申请号： | 200310100170.9 | 申请日： | 2003-10-15 |
| 公开（公告）号： | CN1607463A | 公开（公告）日： | 2005-04-20 |
| 发明（设计）人： | 张锦;冯伯儒;刘娟;宗德蓉;罗斌 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;C23F1/08 |
| 代理公司： | 北京科迪生专利代理有限责任公司 | 代理人： | 刘秀娟;卢纪 |
| 地址： | 610209*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 声光调频一次曝光成像干涉光刻方法及其系统，其特征是使用两个声光调频器，将从激光器发出的波长为λ的激光的频率产生移动，形成一束波长为λ+Δλ的激光，用于在x方向离轴照明光掩模；形成一束波长为λ－Δλ的激光，用于在y方向离轴照明同一光掩模；用波长为λ的激光垂直照明光掩模，由于三束光为不相干涉光，因此三束光各自产生的像在硅片表面非相干叠加，形成最终的掩模像。该方法原理简单，无须用三台波长不同的激光器，或先后分别进行三次曝光，只需同时进行三波长一次曝光就可以完成成像干涉光刻曝光，而且用衰减滤光器可调节垂直照明，x方向倾斜照明和y方向倾斜照明的光强度以改变三束光的曝光量比例以优化像质；同时在参考光Rx、Ry光路中设置滤光片，以调节x方向、y方向曝光时零级光与高频分量的强度比，以利优化像质。 | ||
| 搜索关键词： | 声光 调频 一次 曝光 成像 干涉 光刻 方法 及其 系统 | ||
【主权项】：
1.声光调频一次曝光成像干涉光刻方法，其特征在于包括下列步骤：采用声光调频器使从激光器输出的波长为λ的激光，调频为具有波长差为Δλ的两束光λ+Δλ和λ-Δλ，使三束光互不相干，用它们分别垂直照明光掩模、x方向偏置照明光掩模以及y方向偏置照明光掩模，通过成像系统一次完成曝光。
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