[发明专利]不含1,2-二氯乙烷的唑尼沙胺晶体的制备方法以及唑尼沙胺高纯晶体有效

专利信息
申请号: 03825789.0 申请日: 2003-07-28
公开(公告)号: CN1720239A 公开(公告)日: 2006-01-11
发明(设计)人: 上野良一;木村安次郎 申请(专利权)人: 大日本制药株式会社
主分类号: C07D261/20 分类号: C07D261/20;A61K31/423;A61P25/08
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 代理人: 丁香兰
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供了一种制备唑尼沙胺晶体的方法,该唑尼沙胺晶体包含至多5ppm的残留1,2-二氯乙烷,即通过将含水的C2-4的醇加入包含多于5ppm的残留1,2-二氯乙烷的唑尼沙胺晶体中,通过共沸蒸馏除去所述1,2-二氯乙烷,随后收集从该残余混合物中析出的晶体。本发明还提供了可以用作镇癫痫剂的包含至多5ppm的残留1,2-二氯乙烷的高纯唑尼沙胺晶体。
搜索关键词: 二氯乙烷 唑尼沙胺 晶体 制备 方法 以及 高纯
【主权项】:
1.一种唑尼沙胺晶体的制备方法,所制得的唑尼沙胺晶体包含至多5ppm的残留1,2-二氯乙烷,该方法包括:将含水的C2-4醇加入到包含多于5ppm的残留1,2-二氯乙烷的唑尼沙胺晶体中;通过共沸蒸馏除去所述1,2-二氯乙烷以获得残余混合物;随后收集从该残余混合物中析出的唑尼沙胺晶体,所收集的唑尼沙胺晶体包含至多5ppm的1,2-二氯乙烷。
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