[发明专利]在最佳反应压力下制备烷氧基化物的方法

摘要

本发明涉及制备至少一种烷氧基化物的方法，所述方法包括在至少一种双金属氰化物化合物的存在下，将含至少环氧乙烷的氧化烯混合物与至少一种原料化合物接触，其中在诱导期内，惰性气体分压和环氧乙烷分压之和是1.5巴－6.0巴。本发明还涉及通过所述方法获得的烷氧基化物、以及所述烷氧基化物作为乳化剂、泡沫调节剂或作为用于硬表面的湿润剂的用途。

主权项

1.一种制备至少一种烷氧基化物的方法，包括在至少一种通式I的双金属氰化物化合物的存在下，将至少含环氧乙烷的氧化烯混合物与至少一种原料化合物接触，M1a[M2(CN)b(A)c]d·fM1gXn·h(H2O)·eL·kP (I)其中-M1是至少一种选自Zn2+、Fe2+、Fe3+、Co3+、Ni2+、Mn2+、Co2+、Sn2+、Pb2+、Mo4+、Mo6+、Al3+、V4+、V5+、Sr2+、W4+、W6+、Cr2+、Cr3+、Cd2+、Hg2+、Pd2+、Pt2+、V2+、Mg2+、Ca2+、Ba2+、Cu2+、La3+、Ce3+、Ce4+、Eu3+、Ti3+、Ti4+、Ag+、Rh2+、Rh3+、Ru2+、Ru3+的金属离子，-M2是至少一种选自Fe2+、Fe3+、Co2+、Co3+、Mn2+、Mn3+、V4+、V5+、Cr2+、Cr3+、Rh3+、Ru2+、Ir3+的金属离子，-A和X各自独立地是选自卤离子、氢氧根、硫酸根、碳酸根、氰根、硫代氰酸根、异氰酸根、氰酸根、羧酸根、草酸根、硝酸根、亚硝酰基、硫氢酸根、磷酸根、磷酸二氢根、磷酸氢根或碳酸氢根的阴离子，-L是选自醇、醛、酮、醚、聚醚、酯、聚酯、聚碳酸酯、脲、酰胺、伯、仲和叔胺、带有吡啶氮的配体、腈、硫醚、磷化物、亚磷酸酯、膦、膦酸酯和磷酸酯的水混溶性配体，-k是大于0的分数或整数或等于0，-P是有机添加剂，-a、b、c、d、g和n的选择应当确保化合物(I)的电中性，其中c可以是0，-e是配体分子的数目，是大于0的分数或整数或等于0，-f和h各自独立地是大于0的分数或整数或等于0，其中在诱导期内，惰性气体的分压和环氧乙烷的分压之和是1.5-6.0巴。