[发明专利]固态成像装置及其制造方法无效

专利信息
申请号: 03823175.1 申请日: 2003-09-18
公开(公告)号: CN1685514A 公开(公告)日: 2005-10-19
发明(设计)人: 东宫祥哲 申请(专利权)人: 索尼株式会社
主分类号: H01L27/14 分类号: H01L27/14;H01L31/10
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 陶凤波;侯宇
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明涉及一种CMOS型固态成像装置和制造其的方法,而且提供了一种能够通过单一内层透镜最佳地会聚光的固态成像装置和一种能够形成具有高精度的内层透镜的制造方法。本发明的固态成像装置包括多条布线和在光接收部分上方的多个透镜,其中多个透镜中的至少一个由单一内层透镜形成。制造本发明的固态成像制造的方法包括用选择蚀刻法在具有第一折射率的第一绝缘层上形成凹表面或凸表面和在具有第二折射率的第二绝缘层上形成凸表面或凹表面以形成对应于光接收部分的内层透镜。
搜索关键词: 固态 成像 装置 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种固态成像装置,包括:多个像素,每个像素包括:光接收部分;一布线层,其包括多条布线;和多个形成在所述光接收部分上方的透镜,其中所述的多个透镜中的至少一个为内层透镜,其包括具有由蚀刻形成的凹面部分的第一层和形成为埋覆所述凹面部分的第二层。
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