[发明专利]等离子加工系统中带有沉积罩的上电极板无效
| 申请号： | 03822259.0 | 申请日： | 2003-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN1682342A | 公开（公告）日： | 2005-10-12 |
| 发明（设计）人： | 西本伸也;三桥康至;中山博之 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王永刚 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供改进的用于等离子加工系统的上电极，其中有关带有连接至上电极的沉积罩的电极板的设计和制作有利地提供对上电极腐蚀充分小的加工气体的气体注入，同时提供对室内部的保护。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子 加工 系统 带有 沉积 极板 | ||
【主权项】：
1.一种等离子加工系统的上电极，该电极包括：电极板，该电极板包含连接所述上电极至上部组件的第一表面，包含等离子体表面和配合所述电极板与所述等离子加工系统的配合面的第二表面，外边，以及多个连接至所述第一表面和所述第二表面的注气孔；连接至所述电极板的沉积罩，所述沉积罩包含具有与所述等离子体表面邻接的内表面的圆柱壁，与所述配合面邻接的外表面，和远端表面，其中所述远端表面包含远端前面；和连接至所述上电极的暴露面的防护阻挡层，所述暴露面包含所述等离子体表面、所述内表面和所述远端前面。
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