[发明专利]电路衬底、使用电路衬底的电子设备及电路衬底的制造方法无效

专利信息
申请号: 03819972.6 申请日: 2003-08-25
公开(公告)号: CN1679380A 公开(公告)日: 2005-10-05
发明(设计)人: 大见忠弘;须川成利;森本明大;加藤丈佳;胁坂康寻 申请(专利权)人: 日本瑞翁株式会社;大见忠弘
主分类号: H05K1/03 分类号: H05K1/03;H05K1/02;H05K3/00;H05K3/26;H05K3/42;H05K3/46
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 李贵亮;杨梧
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种电路衬底、使用电路衬底的电子设备及电路衬底的制造方法,在具有绝缘体层和埋入该绝缘体层内部的导体(104)的电路衬底(100)中,在所述绝缘体层在介电常数为εr,相对磁导率为μr时,具有满足μr≥εr的关系的第一绝缘体(101),并利用该第一绝缘体将所述导体实质地包围。
搜索关键词: 电路 衬底 使用 电子设备 制造 方法
【主权项】:
1、一种电路衬底,其具有绝缘体层和埋入该绝缘体层内的导体,其特征在于,所述绝缘体层在介电常数为εr、相对磁导率为μr时,具有满足μr≥εr的关系的第一绝缘体,并利用该第一绝缘体实质地包围所述导体。
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