[发明专利]埃坡霉素衍生物无效
申请号: | 03818644.6 | 申请日: | 2003-08-01 |
公开(公告)号: | CN1675220A | 公开(公告)日: | 2005-09-28 |
发明(设计)人: | 名原健二;K·C·尼科拉乌;A·里森 | 申请(专利权)人: | 诺瓦提斯公司;斯克里普斯研究所 |
主分类号: | C07D493/04 | 分类号: | C07D493/04;C07D417/06;C07D405/06;C07D407/06;A61K31/427;A61K31/4427;A61P35/00;A61P17/06 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 | 代理人: | 黄革生;隗永良 |
地址: | 瑞士*** | 国省代码: | 瑞士;CH |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及其中符号和取代基如说明书中定义的式(I)的埃坡霉素衍生物,还涉及其制备方法、含有该衍生物的药物组合物以及该衍生物在制备尤其用于治疗增殖性疾病如肿瘤的药物组合物中的用途。 | ||
搜索关键词: | 霉素 衍生物 | ||
【主权项】:
1.式(I)化合物,或者当有成盐基团存在时式I化合物的盐:其中:当式I化合物为顺式-异构体时,X为氧或CH2,当式I化合物为反式-异构体时,X为CH2;当式I化合物为顺式-异构体且X为氧时,则R1为甲基且R为选自下组的基团:其中R2为选自-Me、-Cl、-Br、-SMe和-CF3的基团;当式I化合物为顺式异构体且X为CH2时,则R1为甲基且R为选自下组的基团:其中R2为选自-Me、-Cl、-Br、-SMe和-CF3的基团;当式I化合物为反式异构体且X为CH2时,则R1为甲基或氢;其中,当R1为甲基时,R为选自下组的基团:且当R1为氢时,R为选自下组的基团:
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