[发明专利]光掩膜及修补缺陷的方法无效
| 申请号： | 03818126.6 | 申请日： | 2003-06-09 |
| 公开（公告）号： | CN1672099A | 公开（公告）日： | 2005-09-21 |
| 发明（设计）人： | L·迪乌;M·J·拉曼蒂亚 | 申请（专利权）人： | 杜邦光掩公司 |
| 主分类号： | G03F1/00 | 分类号： | G03F1/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 邹光新;梁永 |
| 地址： | 美国得*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 公开了一种光掩模和用于修补该光掩模上的缺陷的方法。优选，该光掩模包括基板、缓冲层和不透射层，该缓冲层设置在该基板和该不透射层之间。该方法包括在该不透射层中形成图案。如果在图案化的不透射层中识别出一个或多个缺陷，则该缓冲层保护基板在修补图案化的不透射层中的缺陷时不受损伤。 | ||
| 搜索关键词： | 光掩膜 修补 缺陷 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于修补光掩模上的缺陷的方法，包括：在和该光掩模相关的基板的一个表面上形成缓冲层；在该缓冲层上形成不透射层；在具有设置在基板和不透射层之间的缓冲层的不透射层中形成图案；识别图案化的不透射层中的一个或多个缺陷；以及修补该图案化的不透射层中的至少一个缺陷，同时该缓冲层保护基板在该修补步骤时不受损伤。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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