[发明专利]刻线载体有效
| 申请号： | 03815723.3 | 申请日： | 2003-06-26 |
| 公开（公告）号： | CN1666144A | 公开（公告）日： | 2005-09-07 |
| 发明（设计）人： | B·维塞曼;J·斯特里克 | 申请（专利权）人： | 诚实公司 |
| 主分类号： | G03B27/62 | 分类号： | G03B27/62 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 蔡民军 |
| 地址： | 美国明*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种在光刻半导体处理中使用的刻线载体，该载体具有底部和覆盖部分。所述底部具有多个刻线支撑体和多个刻线定位元件。所述覆盖部分适于密封地与所述底部配套，并具有内表面，该内表面具有多个间隔开的刻线抑制器和一对从那里向内突出的刻线定位突块。每个所述的刻线定位突块都具有倾斜边缘部分，并被如此定向，以致当所述覆盖部分与所述底部配合时，所述倾斜边缘部分迫使支持在所述刻线支撑体上的刻线与所述刻线抑制器啮合。 | ||
| 搜索关键词： | 载体 | ||
【主权项】：
1.一种在光刻半导体处理中使用的刻线载体，包括：具有多个刻线支撑体和多个刻线定位元件的底部：和适于密封地与所述底部配套的覆盖部分，所述覆盖部分具有内表面，该内表面具有多个间隔开的刻线抑制器和一对从那里突出的刻线定位突块，每个所述的刻线定位突块都具有倾斜边缘部分，所述一对刻线定位部分如此定向，以致当所述覆盖部分与所述底部配合时，所述倾斜边缘部分迫使支持在所述刻线支撑体上的刻线与所述刻线抑制器啮合。
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