[发明专利]局部膜片携载头无效
| 申请号： | 03815370.X | 申请日： | 2003-06-24 |
| 公开（公告）号： | CN1665639A | 公开（公告）日： | 2005-09-07 |
| 发明（设计）人： | P·伦泰恩 | 申请（专利权）人： | 兰姆研究有限公司 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 肖春京 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供一携载头，包含一金属板(402)，该金属板具有在中心位置形成的开口(406)。该金属板具有一晶片侧，在CMP过程中该晶片侧面对晶片(502)的背面；和一非晶片侧。一气囊(408)或膜片(702)位于金属板的非晶片侧上方，且位于在金属板的开口上方。一基本上等于抛光压力的膨胀压力被施加于气囊或膜片上。为了易于运送晶片，可在所述开口处施加真空以将晶片吸附在携载头(400)上。为了释放晶片，气囊或膜片可被充气使得其伸出金属板的开口。 | ||
| 搜索关键词： | 局部 膜片 携载头 | ||
【主权项】：
1.一种用于化学机械抛光(CMP)过程的携载头，包含：金属板，具有在中心位置形成的开口，该金属板具有一晶片侧和一非晶片侧，该晶片侧在CMP过程中面对晶片的背面；和气囊，位于金属板的非晶片侧上方，且位于金属板中的开口上方，其中基本上等于CMP过程中使用的抛光压力的膨胀压力被施加于气囊上。
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