[发明专利]限定用于保持流体或感光材料的容积的装置的制造方法无效

专利信息
申请号: 03814513.8 申请日: 2003-06-10
公开(公告)号: CN1662845A 公开(公告)日: 2005-08-31
发明(设计)人: G·雷-梅尔-梅特 申请(专利权)人: 阿苏拉布股份有限公司
主分类号: G02F1/1339 分类号: G02F1/1339;G02F1/1333
代理公司: 北京市中咨律师事务所 代理人: 杨晓光;李峥
地址: 瑞士*** 国省代码: 瑞士;CH
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摘要: 发明涉及一种制造至少一种限定用于保持流体或感光材料的容积(8)的装置(2,30,48)的方法,所述流体或感光材料能够通过施加电压改变其物理特性特别是光学特性,或者通过施加应力或辐射改变其电特性,所述装置(2,30,48)包括彼此保持恒定距离的至少第一正面基片(4,38,56)和至少第二背面基片(6,32,50),这两个基片(6,32,50;4,38,56)通过限定用于保持感光介质或流体的容积的密封接合(24,46,72)而接合,所述方法的特征在于其包括以下步骤:在基片之一(6,32,50)上构造至少一壁(12,44,66),所述壁通过内侧面限定用于保持感光介质或流体的容积(8);将第二基片(4,38,56)接合到第一基片(6,32,50)上;引入能够流入由壁(12,44,66)的外侧面和两个叠置的基片(6,32,50;4,38,56)限定的间隙(22)的密封材料,直到所述间隙(22)的至少部分容积充有密封材料;以及固化密封材料以使其形成密封框(26,46,72)。
搜索关键词: 限定 用于 保持 流体 感光材料 容积 装置 制造 方法
【主权项】:
1.一种制造至少一种限定用于保持流体或感光材料的容积(8)的装置(2,30,48)的方法,所述流体或感光材料能够通过施加电压改变其物理特性,特别是光学特性,或者通过施加应力或辐射改变其电特性,所述装置(2,30,48)包括彼此保持恒定距离的至少第一正面基片(4,38,56)和至少第二背面基片(6,32,50),这两个所述基片(6,32,50;4,38,56)通过限定用于保持所述感光介质或流体的所述容积(8)的密封接合(24,46,72)而接合,所述方法的特征在于,其包括以下步骤:在所述基片之一(6,32,50)上构造至少一壁(12,44,66),所述壁通过内侧面限定用于保持所述感光介质或流体的所述容积(8);将所述第二基片(4,38,56)接合到所述第一基片(6,32,50)上;引入能够流入由所述壁(12,44,66)的外侧面和两个叠置的所述基片(6,32,50;4,38,56)限定的间隙(22)的密封材料,直到所述间隙(22)的至少部分容积充有所述密封材料;以及固化所述密封材料以使其形成所述密封框(26,46,72)。
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