[发明专利]对单一特征的光学度量无效
| 申请号： | 03814153.1 | 申请日： | 2003-06-09 |
| 公开（公告）号： | CN1662789A | 公开（公告）日： | 2005-08-31 |
| 发明（设计）人： | 乔尔格·比肖夫;牛新辉;鲍君威 | 申请（专利权）人： | 音质技术公司 |
| 主分类号： | G01B11/00 | 分类号： | G01B11/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 秦晨 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 形成在晶片(104)之上的单一特征(102)的分布，可以用这样的方法确定：利用一个光束(108)形成一个聚焦在特征(102)上的光源(106)，以及一个用来检测从该特征(102)衍射出的光(110)的检测器(112)，来得到该特征的光学识别标志。然后可以由一个处理器(114)将获得的光学识别标志与储存在程序库(116)中的一组模拟光学特征进行对比，其中每个模拟光学识别标志对应于该单一特征的一个假定分布，并且根据该假定分布而建模。 | ||
| 搜索关键词： | 单一 特征 光学 度量 | ||
【主权项】：
1.一种确定形成于晶片之上的单一特征的分布的方法，该方法包括：聚焦一光束在该单一特征上；检测从该单一特征衍射出的光束；获取来自该衍射的光束的光学识别标志；和根据所获得的光学识别标志与一组模拟光学识别标志的对比来选择一个模拟光学识别标志，其中每个模拟光学识别标志对应于该单一特征的一个假定分布，并且其中每个模拟光学识别标志根据该假定分布而建模。
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