[发明专利]电摄影感光体、成像处理盒及电摄影装置有效
| 申请号: | 03813868.9 | 申请日: | 2003-06-26 |
| 公开(公告)号: | CN1662855A | 公开(公告)日: | 2005-08-31 |
| 发明(设计)人: | 上杉浩敏;穴山秀树;山崎至;中村一成;吉田晃 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
| 主分类号: | G03G5/147 | 分类号: | G03G5/147;G03G5/05;G03G15/00 |
| 代理公司: | 北京市金杜律师事务所 | 代理人: | 杨宏军 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | 本发明提供一种电摄影感光体,所述电摄影感光体无需增强转印电流就能够长期维持高转印效率,得到良好的图像,特别是即使将其用于彩色电摄影装置,也可以无需增强转印电流就能够长期维持高转印效率,得到良好的图像。另外,还提供一种含有所述电摄影感光体的成像处理盒及电摄影装置。所述电摄影感光体在支撑体上具有感光层,其特征为,该电摄影感光体的表面层中含有二有机聚硅氧烷,该二有机聚硅氧烷包含特定的重复结构单元α及β,重均分子量为1000~1000000,该二有机聚硅氧烷在该表面层中的含量相对于该表面层总质量为0.01~20质量%(其中,该表面层含有含氟原子树脂粒子的情况除外)。 | ||
| 搜索关键词: | 摄影 感光 成像 处理 装置 | ||
【主权项】:
1.一种电摄影感光体,是在支撑体上具有感光层的电摄影感光体,其特征为,该电摄影感光体的表面层中含有二有机聚硅氧烷,该二有机聚硅氧烷含有下述式11所示重复结构单元α及下述式12所示重复结构单元β,重均分子量为1000~1000000,该二有机聚硅氧烷在该表面层中的含量相对于该表面层总质量为0.01~20质量%,其中,该表面层含有含氟原子树脂粒子的情况除外,
式11、12中,R11、R12分别独立地表示取代或未取代的一价烃基,B11表示含有全氟烷基的一价有机基团,D11表示从由含有聚合度为3或3以上的取代或未取代的聚苯乙烯链的一价有机基团、含有取代或未取代的亚烷基氧基的一价有机基团、含有取代或未取代的硅氧烷链的一价有机基团、以及从碳原子数为12或12以上的一价有机基团组成的组中选择的一价基团。
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