[发明专利]位置测量方法、曝光方法、曝光装置、及器件制造方法无效
| 申请号： | 03812058.5 | 申请日： | 2003-06-02 |
| 公开（公告）号： | CN1656354A | 公开（公告）日： | 2005-08-17 |
| 发明（设计）人： | 小林满 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G01B11/00 | 分类号： | G01B11/00;H01L21/027;G03F9/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 许海兰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种位置测量方法、曝光方法、曝光装置、及器件制造方法。在该位置测量方法中，用照明光束照明形成于物体上的标记，通过观察系对从该标记发生的光束进行摄像，对该摄像信号进行信号处理，获得与标记的位置相关的位置信息。根据包含于摄像信号中的与包含光量依存成分的噪声相关的信息和该摄像信号进行上述信号处理。结果，即使在摄像信号中包含噪声的场合，也可精度良好地测量标记的位置信息。 | ||
| 搜索关键词： | 位置 测量方法 曝光 方法 装置 器件 制造 | ||
【主权项】：
1.一种位置测量方法，用照明光束照明形成于物体上的标记，通过观察系对从该标记发生的光束进行摄像，对该摄像信号进行信号处理，获得与上述标记的位置相关的位置信息；其特征在于：根据包含于上述摄像信号中的、与包含光量依存成分的噪声相关的信息和上述摄像信号进行上述信号处理。
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