[发明专利]用于疏水性修饰表面并增强活性物质向用其处理的表面递送包含阴离子官能化聚有机硅氧烷的组合物

摘要

本文公开了用于处理和修饰表面并增强活性剂向用其处理表面递送的组合物和方法，其中该组合物包含硅氧烷聚合物，该聚合物以包含两个或更多阴离子基团，至少一个阴离子基团是羧基的侧链部分官能化。当本组合物施用到适宜的表面上时，其在所处理的表面形成了非常疏水的阴离子官能化硅氧烷聚合物涂层。这些聚合物有效地沉积在具有阳离子位点的表面上，所述位点能够形成与聚合物阴离子基团之间的键合或连接。所处理的表面由于阴离子官能化硅氧烷聚合物的沉积而变得疏水，然后该聚合物赋予所述的表面多种最终使用有益效果，如易于清洁、去污、色斑除去及预防、调理，等等。该阴离子官能化硅氧烷聚合物还可用作载体以将活性剂沉积在表面上，并改善该活性剂在所处理表面上的保留和功效。本组合物可用于多种应用，包括口腔护理、毛发和皮肤护理、个人护理、美容以及织物和硬质表面的清洁和调理。

主权项

1.处理和疏水性地修饰包含阳离子位点表面的组合物，所述组合物按重量计包括至少0.001％的具有下式的阴离子官能化硅氧烷聚合物R1R2R3SiO(R4R5SiO)p(R6ASiO)qSiR3R2R1 其中R1至R6，其可以完全相同或不同，各自代表直链或支链的C1-C8的烷基或苯基，优选甲基；A代表包含下式基团的羧基其中B代表具有2至30个碳原子的亚烷基残基，所述亚烷基残基可任选地被嵌入高达8个非相邻的氧原子或下式基团：-NR7-、-CO-或-C(O)-O-C(O)-，其中R7为氢或C1-C4的烷基，L代表CR’或苯基，其中R’代表氢原子、具有1至30个碳原子的烷基或羧基，E为零或为具有1至5个碳原子、优选1至3个碳原子的亚烷基残基，所述亚烷基残基可任选地被具有1至8个碳原子的一个或多个烷基取代，Z代表选自羟基、氨基、羧基或烷氧基的阴离子官能团，其中当L为CR’时，Z不是羧基，并且当L为苯基时，所述基团-E-C(O)OM和-E-Z互为邻位且E为零，和M为H，具有1至4个碳原子的可任选地被羟基或烷氧基取代的烷基，或阳离子，所述阳离子选自碱金属、碱土金属和取代的或未取代的铵、哌啶鎓或链烷醇胺；p为0至1000、优选0至500、更优选5至200范围内的平均值；和q为1至100、优选1至50范围内的平均值。