[发明专利]成膜装置

摘要

本发明的成膜装置100的特征是，包括：装入用于生成源气体的原料的原料容器10；用于对半导体基板101进行成膜处理的成膜室120；用于将上述源气体从原料容器10供给至成膜室120的原料供给管路30；具有由涡轮分子泵14和干式泵16形成的真空泵系统的用于排出成膜室120中气体的排气流路32；和，从原料供给管路30分支、并与成膜室120和涡轮分子泵14形成旁路、然后与排气流路32合流的预流动流路33；并且，原料供给管路30包含有内径大于6.4mm的配管，在预流动流路中33设置涡轮分子泵15。

主权项

1.一种成膜装置，包括：装入用于生成源气体的原料的原料容器；用于对半导体基板进行成膜处理的成膜室；用于将所述源气体从所述原料容器供给至所述成膜室的原料供给管路；和，设置有真空泵系统的用于排出所述成膜室中气体的排气流路，其特征在于：所述原料供给管路包含有内径大于6.4mm的配管。