[发明专利]光记录介质的写入方案无效
| 申请号： | 03807376.5 | 申请日： | 2003-03-05 |
| 公开（公告）号： | CN1643582A | 公开（公告）日： | 2005-07-20 |
| 发明（设计）人： | B·范索梅恩;W·M·J·M·科内 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G11B7/013 | 分类号： | G11B7/013 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 邹光新;陈景峻 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于将信息写入到光学记录介质上的写入方案，所述方案通过在所述光学记录介质的记录表面上形成与所述信息的预定状态相应的标记区例如凹坑区域来进行写入。所述写入方案用于以预定方式调制所述标记区的形状，以获得不完全标记区，所述不完全标记区不完全覆盖要分配给被写入的信道信号位的尺寸。从而，由于在组合相邻凹坑的簇时不完全标记区例如凹坑效果不会形成大面积的镜面，因此，避免或减轻了写入或母盘制作过程中叠加问题的出现。可以通过以适于降低反射表面和/或增加衍射的任意方式调制形状，从而获得所述不完全标记区。另外，可以通过根据多电平编码信息的电平分别控制不完全标记区的形状或数量实现多电平调制或二进制调制。 | ||
| 搜索关键词： | 记录 介质 写入 方案 | ||
【主权项】：
1、一种将信息写入到光学记录介质(50)上的方法，所述方法通过在所述光学记录介质的记录表面上形成与所述信息的预定状态相应的标记区进行记录，所述方法包括使所述形成步骤适于以预定的方式调制所述标记区的形状、从而获得不完全标记区的步骤，其中所述不完全标记区仅部分覆盖介质上的与要被写入的信道信号位相关的区域。
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