[发明专利]B-阶底填密封剂及其应用方法无效

专利信息
申请号: 03804934.1 申请日: 2003-02-11
公开(公告)号: CN1639852A 公开(公告)日: 2005-07-13
发明(设计)人: Q·K·童;Y·肖;B·马;G·杜特 申请(专利权)人: 国家淀粉及化学投资控股公司
主分类号: H01L21/56 分类号: H01L21/56;C08G59/50;C08G59/68
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 范赤;段晓玲
地址: 美国特*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 一种在将晶片分割成单芯片之前直接应用在半导体晶片上的可固化底填密封剂组合物。该组合物包括由环氧树脂、含有苯酚的化合物例如苯酚和酚醛树脂组成的热固化树脂体系、溶剂、咪唑-酸酐固化剂、无机填充物、融合剂、和可选择的润湿剂。根据需要也可加入各种其它辅助物例如消泡剂、附着力促进剂、流动添加剂和流变调节剂。底填密封剂可经B-阶处理以在晶片上提供光滑、不粘的涂层并允许晶片被清洁地切割成单芯片。一种生产包含B-阶材料的电子封装件的方法,该方法也可以在与芯片连接的基板上利用未填充液态可固化融合材料。
搜索关键词: 阶底填 密封剂 及其 应用 方法
【主权项】:
1、一种B-阶底填密封剂,其中密封剂在B-阶处理期间固化以在半导体晶片或硅芯片上产生光滑、不粘表面。
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