[发明专利]粘合基片及其制造方法、以及其中使用的晶片外周加压用夹具类有效
| 申请号: | 03804904.X | 申请日: | 2003-05-02 |
| 公开(公告)号: | CN1639869A | 公开(公告)日: | 2005-07-13 |
| 发明(设计)人: | 富田真一;吉丸浩二 | 申请(专利权)人: | 三菱住友硅晶株式会社 |
| 主分类号: | H01L27/12 | 分类号: | H01L27/12 |
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 胡强;杨松龄 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | 一种通过在表面磨削后进行除去活性层的外周部的粘合不良部分的粘合基片、其制造方法、晶片外周加压夹具类。在表面磨削后,对粘合晶片(30)的活性层用晶片(10)一侧实施除去外周部而留下中央部的外周除去研磨。从而省去以前的外周磨削、外周腐蚀。并且,能够消除因外周腐蚀而导致的晶片(20)的外周面的腐蚀麻点、因氧化硅薄膜(10a)的切削余留而导致的SOI层(10A)的污染及损伤,能谋求高成品率、低成本。 | ||
| 搜索关键词: | 粘合 及其 制造 方法 以及 其中 使用 晶片 加压 夹具 | ||
【主权项】:
1、一种粘合基片,是将活性层与从背面侧对其支承的支承基片用晶片粘合的粘合基片,上述活性层的外周面,是从该活性层的表面的外周缘到上述支承基片用晶片的除去了粘合不良部分的粘合界面的外周缘、或者从上述活性层的表面的外周缘到支承基片用晶片的外周缘进行了研磨的倾斜面。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的





