[发明专利]反应器组件和处理方法无效
| 申请号： | 03803423.9 | 申请日： | 2003-02-10 |
| 公开（公告）号： | CN1628368A | 公开（公告）日： | 2005-06-15 |
| 发明（设计）人： | D·金纳德;D·费里斯 | 申请（专利权）人： | 艾克塞利斯技术公司 |
| 主分类号： | H01L21/00 | 分类号： | H01L21/00;H01J37/32;C23C16/455;C23C16/50 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 廖凌玲;杨松龄 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种反应器组件和用于处理衬底的处理方法包括基座单元、卡盘组件、入口歧管组件和排气歧管组件。入口歧管组件与处理室的第一开口是流体连通的，其中入口歧管组件包括适于横向拉长进入处理室的气体和/或反应物流的流体成形部分。排气歧管组件与处理室的第二开口是流体连通的并与入口歧管组件径向相对。该处理方法包括在与衬底表面大致共面的方向使气体和/或反应物流进反应器组件的处理室，提供提高的均匀性和增加的反应性。 | ||
| 搜索关键词： | 反应器 组件 处理 方法 | ||
【主权项】：
1、一种反应器组件，包括：基座单元；设置在基座单元的腔内的卡盘组件，其中卡盘组件包括具有能接收衬底的表面的支架；包括顶壁、底壁和从其延伸的侧壁的处理室，其中处理室耦合到基座单元；与被选择的一个侧壁中的处理室的第一开口流体连通的入口歧管组件，其中入口歧管组件包括适于横向拉长进入处理室的气体和/或反应物流的流体成形部分；和与侧壁中的处理室的第二开口流体连通的排气歧管组件，所述侧壁与所述被选择的一个侧壁径向相对。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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