[发明专利]对基片制造方法的改进有效
| 申请号： | 03802686.4 | 申请日： | 2003-01-22 |
| 公开（公告）号： | CN1622883A | 公开（公告）日： | 2005-06-01 |
| 发明（设计）人： | 罗兰·伊舍伍德;劳伦斯·G·科曼德 | 申请（专利权）人： | 德拉鲁国际公司 |
| 主分类号： | B41M3/14 | 分类号： | B41M3/14;B42D15/00;D21H21/42;D21H21/48 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 寇英杰 |
| 地址： | 英国*** | 国省代码： | 英国;GB |
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| 摘要： | 本发明涉及对基片制造方法的改进，所述基片可以以各种形状和尺寸应用于各种验证和安全领域，这种方法结合了由对防伪元件进行金属化或者脱金属所形成标记的优点和液晶材料的色彩偏移效果的优点。因此，本发明提供了一种制造基片的方法，包括下述步骤：在基本透明的聚合薄膜的一个侧面上将一种深色抗蚀剂涂敷在金属层的至少一部分上；将金属从没有被所述抗蚀剂覆盖的区域中去除，以形成脱金属区域；以及在所述抗蚀剂和脱金属区域的上方涂敷一种聚合液晶材料。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 方法 改进 | ||
【主权项】：
1.一种制造基片(10)的方法，包括下述步骤：在一个基本上透明的聚合薄膜(11)的第一侧面上，将一种深色抗蚀剂(13)涂敷在一个金属层(12)的至少一部分上；从没有被抗蚀剂(13)覆盖的区域去除金属，来形成脱金属区域；以及在抗蚀剂(13)和脱金属区域上方涂敷一种聚合液晶材料(15)。
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