[实用新型]位移传感器

摘要

可几乎不受反射强度不匀影响而进行高精度快速位移测量的位移传感器，具备：投光单元(1)、具有遮光掩模(901a)和受光元件(902a)的受光单元(9)、将投光单元(1)射出的光束聚焦于被测物体(8)的第1聚光元件(3、5、7)、将反射光束聚焦于受光单元的第2聚光元件(3、5、7)、在被测物体一侧使投光光轴和受光光轴同轴的第1光路控制元件(2)及使从投光单元到被测物体的光程及从被测物体到受光单元的光程连续变化的光程扫描机构(6)。遮光掩模配置于从第2聚光元件到受光元件的光路中，在反射光束被第2聚光元件聚焦的位置因光程扫描机构而变化时，使遮住反射光束部分的比例改变。受光元件接收通过遮光掩模的光束，根据因光程扫描机构而变化的受光元件的输出信号，取得到被测物体距离的信息。

主权项

1.一种位移传感器，其特征在于，具备：投光单元，具有遮光掩模和受光元件的受光单元，把投光单元射出的光束聚焦于测量对象物体的第1聚光元件，将来自所述测量对象物体的反射光束向受光单元聚焦的第2聚光元件，配置在从所述投光单元至所述测量对象物体的投光光路中并且是配置在从所述测量对象物体至所述受光单元的受光光路中，使由所述第1聚光元件和所述投光单元规定的投光光轴与由所述第2聚光元件和所述受光单元规定的受光光轴在测量对象物体一侧同轴的第1光路控制元件，以及配置在所述投光光轴与所述受光光轴变为同轴的光路中并且是配置在所述投光光路及受光光路中的光束不平行的部位，使从投光单元到测量对象物体的光程及从测量对象物体到受光单元的光程连续变化的光程扫描机构，所述遮光掩模配置于从所述第2聚光元件到所述受光元件的光路中，当来自所述测量对象物体的反射光束由第2聚光元件聚焦的位置因所述光程扫描机构的动作而发生变化时，使被所述遮光掩模遮住的该反射光束一部分的比例发生变化，所述受光元件是接收通过遮光掩模后的光束的元件，根据由于所述光程扫描机构的动作而变化的受光元件的输出信号，取得到测量对象物体的距离方面的信息。