[发明专利]化学机械抛光和垫修整方法无效
| 申请号： | 03178453.4 | 申请日： | 2003-07-17 |
| 公开（公告）号： | CN1485180A | 公开（公告）日： | 2004-03-31 |
| 发明（设计）人： | 杰勒德·斯蒂芬·莫洛尼;王惠明;劳志刚 | 申请（专利权）人： | 埃巴拉技术公司 |
| 主分类号： | B24B39/06 | 分类号： | B24B39/06;B24B53/02 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 王琼 |
| 地址： | 美国加*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供一种基于垫修整器、头和/或抛光垫的不同转速的化学机械抛光和垫修整方法，以便改善中心慢型面加工。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 机械抛光 修整 方法 | ||
【主权项】：
1.一种化学和机械抛光和垫修整方法，包括：通过使垫修整器相对于一转动的抛光垫转动而修整抛光垫；将淤浆分配到抛光垫上；以及通过使板片相对于所述转动的抛光垫转动，而对板片进行化学和机械地抛光，其特征在于：垫修整器、抛光垫和板片的转动方向从下述组中选择，所述组由I～XIV转动的组合组成，其中，I～XIV转动的组合定义如下：转动组合 抛光 垫修整 抛光垫 头 抛光垫 修整器 I + + - - II + + + - III + + - + IV + - + + V + - - - VI + - + - VII + - - + VIII - + + + IX - + - - X - + + - XI - + - + XII - - + + XIII - - + - XIV - - - +
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