[发明专利]激光装置、激光照射方法和半导体器件制造方法有效
申请号: | 03158812.3 | 申请日: | 2003-09-12 |
公开(公告)号: | CN1492488A | 公开(公告)日: | 2004-04-28 |
发明(设计)人: | 宫入秀和;下村明久;高野圭惠;古山将树;田中幸一郎 | 申请(专利权)人: | 株式会社半导体能源研究所 |
主分类号: | H01L21/324 | 分类号: | H01L21/324;B23K26/00;H01S3/00;G02F1/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 王岳;梁永 |
地址: | 日本神奈*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明的目的是提供使激光能量更稳定的激光装置、激光照射方法和半导体器件的制作方法。为此,对振荡器发射的激光束的一部分进行采样,以生成包含激光束的能量波动作为数据的电信号。对该电信号进行信号处理,以计算激光束能量波动的频率、幅度和相位。光量调节装置的透射比被控制,使得透射比变化的相位与激光束能量波动的相位相反,且幅度能够减小振荡器发射的激光束的幅度,该控制根据与从振荡器发射的激光束的振荡同步的信号的相位与计算得到的相位之间的相位差、根据采样的激光束与从振荡器发射的激光束的能量比率、以及根据计算得到的频率和幅度进行。在光量调节装置中,从振荡器振荡的激光束的能量被调节。 | ||
搜索关键词: | 激光 装置 照射 方法 半导体器件 制造 | ||
【主权项】:
1.一种激光装置,包括:用于对从振荡器发出的激光束的一部分进行采样的光学系统;用于利用采样的激光束的部分产生包含激光束的能量波动作为数据的电信号的装置;用于通过改变其透射比来调节从振荡器发射的激光束的能量的光量调节装置;以及信号处理单元,用于对电信号进行信号处理,以计算激光束的能量波动的频率、幅度、和相位,该信号处理单元控制透射比,使得透射比变化的相位与激光束的能量波动的相位相反,且透射比的幅度能够降低从振荡器发射的激光束的能量波动的幅度,该控制根据与从振荡器发射的激光束的振荡同步的信号的相位与计算得到的相位之间的相位差、根据采样的激光束与从振荡器发射的激光束的能量比率、以及根据计算得到的频率和幅度进行。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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